在高端光刻膠方面，國內又一家公司加入戰場了，彤程新材宣布自籌7億元研發ArF高端光刻膠。

彤程新材公告，公司從實際生產經營需求出發，決定通過公司全資子公司彤程電子在上海化學工業區內使用自籌資金6.9853億元，投資建設“ArF 高端光刻膠研發平臺建設項目”，項目預計于2023年末建設完成。

該項目主要研究 ArF 濕法光刻膠工業化生產技術開發，通過建立標準化的生產及控制流程，提升高端光刻膠的質量控制水平，實現193nm 濕法光刻膠量產生產；同時，逐步建立先進的集成電路及配套材料開發與應用評價平臺。

ArF光刻膠涵蓋的工藝技術很廣，可用于90nm-14nm甚至7nm 技術節點制造工藝，廣泛應用于高端芯片制造（如邏輯芯片、 存儲芯片、AI 芯片、5G 芯片和云計算芯片等）。