昨天全球最大的光刻機供應商ASML發布了2021年Q4及全年財報，去年營收186.11億歐元，較上一財年增長33%，凈利潤也從35.54億歐元漲至58.83億歐元，全年出貨42套EUV光刻機，比上一年增加11套。

Q4季度中，ASML公司還新增了71億歐元的新訂單，其中就有一套NA 0.55高數值孔徑EUV光刻機的銷售，這是ASML下一代光刻機，訂購這個光刻機的是Intel，據說成本高達3億美元，約合19億元。

要知道，在當前的EUV光刻機銷售中，臺積電及三星都是大客戶，訂單量遠高于Intel，但在下一代EUV光刻機中Intel拿到了獨占權，有一定的搶先期，早在2018年就下第一臺。

在當前NA 0.33的EUV光刻機中，Intel動作慢了，被臺積電、三星搶先，Intel的EUV工藝芯片量產要到2023年的14代酷睿Metor Lake上。

在下一代NA 0.55的EUV光刻工藝中，Intel不允許同樣的錯誤再次發生，這一次要搶先三星臺積電下單，也會搶先量產20A及18A工藝，首次進入埃米級工藝節點。

基于此，4年來Intel實際上已經下單了6臺NA 0.55的EUV光刻機，其中分為兩種，Twinscan Exe:5000系列主要用于工藝研發，產能輸出是185WPH，每小時生產185片晶圓，2023年上半年交付。

量產型的NA 0.55光刻機是Twinscan Exe:5200，產能提升到200WPH，每小時200片晶圓，預計會在2024年下線，Intel的20A工藝正好是在2024年量產。