1月25日消息，針對投資提問ASML的新一代光刻機EXE:5200是否使用了炬光科技的產品，炬光科技回應稱公司是ASML公司核心供應商A公司的重要供應商。

炬光科技表示，公司為半導體光刻應用領域提供光刻機曝光系統中的核心激光光學元器件光場勻化器，是荷蘭ASML光學設備核心供應商A公司的重要供應商。相關商用情況請以官方披露為準。

上周的Q4財報會議上，ASML公司確認將推出下一代的高NA EUV光刻機，NA值從0.33提升到0.55，進一步提高光刻分辨率，是制造2nm及以下工藝的關鍵設備。

Q4季度中，ASML公司還新增了71億歐元的新訂單，其中就有一套NA 0.55高數值孔徑EUV光刻機的銷售，這是ASML下一代光刻機，訂購這個光刻機的是Intel，據說成本高達3億美元，約合19億元。

4年來Intel實際上已經下單了6臺NA 0.55的EUV光刻機，其中分為兩種，Twinscan Exe:5000系列主要用于工藝研發，產能輸出是185WPH，每小時生產185片晶圓，2023年上半年交付。

量產型的NA 0.55光刻機是Twinscan Exe:5200，產能提升到200WPH，每小時200片晶圓，預計會在2024年下線，Intel的20A工藝正好是在2024年量產。