1月25日消息，針對(duì)投資提問ASML的新一代光刻機(jī)EXE:5200是否使用了炬光科技的產(chǎn)品，炬光科技回應(yīng)稱公司是ASML公司核心供應(yīng)商A公司的重要供應(yīng)商。

炬光科技表示，公司為半導(dǎo)體光刻應(yīng)用領(lǐng)域提供光刻機(jī)曝光系統(tǒng)中的核心激光光學(xué)元器件光場勻化器，是荷蘭ASML光學(xué)設(shè)備核心供應(yīng)商A公司的重要供應(yīng)商。相關(guān)商用情況請(qǐng)以官方披露為準(zhǔn)。

上周的Q4財(cái)報(bào)會(huì)議上，ASML公司確認(rèn)將推出下一代的高NA EUV光刻機(jī)，NA值從0.33提升到0.55，進(jìn)一步提高光刻分辨率，是制造2nm及以下工藝的關(guān)鍵設(shè)備。

Q4季度中，ASML公司還新增了71億歐元的新訂單，其中就有一套NA 0.55高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)的銷售，這是ASML下一代光刻機(jī)，訂購這個(gè)光刻機(jī)的是Intel，據(jù)說成本高達(dá)3億美元，約合19億元。

4年來Intel實(shí)際上已經(jīng)下單了6臺(tái)NA 0.55的EUV光刻機(jī)，其中分為兩種，Twinscan Exe:5000系列主要用于工藝研發(fā)，產(chǎn)能輸出是185WPH，每小時(shí)生產(chǎn)185片晶圓，2023年上半年交付。

量產(chǎn)型的NA 0.55光刻機(jī)是Twinscan Exe:5200，產(chǎn)能提升到200WPH，每小時(shí)200片晶圓，預(yù)計(jì)會(huì)在2024年下線，Intel的20A工藝正好是在2024年量產(chǎn)。