ASML是全球唯一一家量產EUV光刻機的，臺積電、三星、Intel的7nm、5nm及未來的3nm、2nm都要依賴EUV光刻機，單臺售價超過1億美元，成本極高。

ASML的EUV光刻機目前使用的還是第一代，EUV光源波長在13.5nm左右，物鏡的NA數值孔徑是0.33，發展了一系列型號。

其中最早量產出廠的是NXE：3400B，產能有限，一小時生產晶圓是125PWH，目前的出貨主力是NXE:3400C，產能提升到135WPH，今年底還有NXE:3600D系列出貨，產能再進一步提升到160WPH，不過價格也會提升到1.45億美元了。

現在第一代的EUV光刻機NA指標太低，第二代EUV光刻機會是N XE：5000系列，其物鏡的NA將提升到0.55，進一步提高光刻精度，半導體工藝突破1nm工藝就要靠下一代光刻機了。

然而NA 0.55的二代EUV光刻機沒那么容易，原本預計最快2023年問世，最新傳聞稱NXE:5000系列跳票，而且一下子就跳票三年，要到2025-2026年才有可能問世了。

不僅時間延期，二代EUV光刻機的價格也會大漲，預計輕松達到3億美元，是現有EUV光刻機的2-3倍，這就意味著未來的芯片工藝成本極其昂貴，哪怕真能做到1nm工藝，那高昂的成本也會讓大多數公司退而卻步。

按照這樣的發展下去，估計1nm工藝的大客戶就剩下蘋果自己了。