蘋果將為iPhone采用屏下Touch ID和Face ID的消息已經(jīng)不是第一次聽(tīng)到了。最近，蘋果通過(guò)美國(guó)專利商標(biāo)局獲得了一項(xiàng)新專利，可以用于屏下Face ID和Touch ID未來(lái)有望能看到蘋果能發(fā)布沒(méi)有劉海屏的真全面屏。

專利文檔顯示，蘋果考慮將TouchID和Face ID深度集成到屏幕內(nèi)，

光學(xué)成像陣列位于屏幕后面，可定向接收通過(guò)屏幕傳來(lái)的光線，與屏幕發(fā)光的方向相反。

介紹中提到的光學(xué)成像陣列，適用于成像、感測(cè)或數(shù)據(jù)聚合等，包括但不限于環(huán)境光感測(cè)、近距、深度感應(yīng)、結(jié)構(gòu)光、光通信、生物特征成像（例如指紋成像、虹膜成像、面部識(shí)別等）。

這項(xiàng)專利意味著，屏幕可能會(huì)有一部分"通過(guò)不透明的背板定義的成像孔"，蘋果稱之為“光圈”。

為了能夠正常使用Touch ID和Face ID，這塊“光圈”區(qū)域的屏幕像素密度比其余部分要低一些。

還有一種可能，就是在使用Touch ID和Face ID時(shí)，這塊“光圈”區(qū)域的像素才會(huì)降低，在不使用時(shí)，像素密度和其它區(qū)域一致。

在這份14000字的專利報(bào)告中，蘋果還提及了此專利也可用于MacBook上。

不過(guò)，蘋果已經(jīng)擁有不少屏下Touch ID和Face ID識(shí)別專利，將來(lái)會(huì)采用哪一種尚未可知。

蘋果計(jì)劃于今年9月24日發(fā)布新iPhone，依然會(huì)采用劉海屏和Face ID單生物識(shí)別方案，短期內(nèi)是看不到同時(shí)采用Touch ID和Face ID識(shí)別方案的新機(jī)發(fā)布了，不過(guò)有消息稱iPhone SE 3 Plus可能會(huì)采用電源指紋識(shí)別方案。