4月20日下午消息,光刻機巨頭荷蘭ASML(阿斯麥)公布了今年一季財報。
數(shù)據(jù)顯示,公司一季度凈收入35億歐元,毛利率49%,凈利潤6.95億歐元,新增凈訂單額70億歐元,其中來自0.33NA+0.55NA EUV光刻機的量達到25億歐元。
環(huán)比來看,無論是收入還是凈利潤都出現(xiàn)大幅下滑,降幅分別達到60%和29%。
不過,公司預計二季度凈收入將回歸到51~53億歐元的合理區(qū)間。
光刻機方面,一季度共銷售62臺,其中EUV 3臺。出貨地區(qū)方面,中國大陸占比最高,為34%,其次是韓國的29%,中國臺灣占比22%。
值得一提的是,ASML特別提到,本季度收到了多個預訂High-NA EXE:5200(0.55NA)的光刻機訂單,包括邏輯廠商、也有存儲芯片廠商,據(jù)說成本高達3億美元,約合19億元。
所謂High-NA也就是高數(shù)值孔徑,2nm之后的節(jié)點都得依賴它實現(xiàn)。
評論